Etude et caractérisation des couches minces à base d’hexaméthyldisiloxane(HMDSO) sensibles à l’humidité relative déposés par la technique (PECVD)
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Date
2017
Authors
Journal Title
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Volume Title
Publisher
UNIVERSITE MOHAMED BOUDIAF - M’SILA
Abstract
Dans ce mèmoire, nous nous somme intéressé à l’étude de l’éffet de l’épaisseur des
couches sensible à base d’HMDSO pur déposé par le technique PECVD dans un réacteur base
fréquence (19 Khz) sur les caractéristiques essentielles du capteur telques : la sensibilité, la
réversibilité et le temps de réponse. Les résultats obtenus montrent que le courant croît avec
l’augmentation d’humoidité relative, d’une part. D’autre part, les valeurs de l’impédance du
capteur dimuner avec la croissance du taux d’humidité relative. De plus, l’augmentation des
épaisseurs de la couche sensible engendre une densification et par conséquent une diminution du
pouvoir d’absorption. Autrement dit, la caractérisation physico-chimique des films élaborés par
spectroscopie FTIR montre que l’augmentation de l’épaisseur induit une densification des films
élaborés et une croissance des liaisons SiCH3 et SiH qui empêchent la formation des liaisons
SiOH conduisant à un film hydrophobe et donc une diminution du pouvoir d’absorption
d’humidité.
Description
Keywords
Couches sensibles, plasma, HMDSO, capteur d’humidité